刻蚀机和光刻机的区别（光刻机和刻蚀机有什么区别）

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1、 掩膜版光刻机和掩膜版光刻机的区别在于，图案是印在上面的，而光刻机是根据印好的图案，把有或者没有图案的部分蚀刻掉，剩下的就留下了。掩模光刻机利用光学和化学反应的原理以及化学和物理刻蚀的方法。

2、 MaskAligner又称光刻机、曝光系统、光刻系统，是制造芯片的核心设备。

3、 它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。

4、 曝光机是利用紫外线通过模板去除晶圆表面保护膜的设备。

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